Конференцию на тему «Комплексное проектирование микросистем средствами САПР Mentor Graphics» организовал институт нано- и микросистемной техники совместно с компанией Mentor Graphics. Об этом 31 января сообщил сайт МИЭТа.
В течение двух дней мероприятие посетили сто шестьдесят человек. В конференции приняли участие учёные из МИЭТа, а также представители компаний: Megratec, Mentor Graphics и Siemens PLM. В общей сложности, к конференции проявили интерес сорок шесть компаний, направивших своих сотрудников в МИЭТ для изучения материала конференции.
В первый день конференции специалисты рассмотрели проектирование ИС и МЭМС, продемонстрировали маршруты проектирования МЭМС и элементов интегральной фотоники. Во второй день конференции центральной темой обсуждения стал вопрос проектирования микросистем в корпусе и на печатных платах.
По завершении научного мероприятия были достигнуты договорённости о дальнейшем сотрудничестве заинтересованных сторон в рамках международных конференций.
